：“duv光刻机已经投入巨资，开始研发了，五年内有希望。而euv光刻机项目，却难度很大，不容乐观。不过，官方是将euv光刻机和duv光刻机，同步开始推进的！”
王逸明白了，两种光刻机是两代技术，或者说euv光刻机是全新的技术。
所以没必要等几年后研发出duv光刻机，再推进euv光刻机研发，这样太慢了。
相反直接立项，两代产品，两代技术，一同研发！
如此魄力，王逸都很佩服。
索性道：“euv光刻机的确困难，需要的上下游产业链太多，咱们差得很远。但换个思路，如果euv光刻机不好做，做一个euv光刻厂会不会容易一点？”
“euv光刻厂？”秦主任眼睛一亮：“你详细说一说。”
王逸略微思忖，刚想开口，却被秦主任直接打断：
“王董，你稍等下，这种严密的技术性问题，我也不在行，可否让我录个视频，回去给专家院士看？”
“没问题。”王逸摆了摆手。
“谢谢！”秦主任和蔼一笑，当即拿出星逸xphone1，打开视频录制：“好了，王董，请继续说。”
王逸点点头：“众所周知，阿斯麦的euv光刻机之所以厉害，能做到5纳米以下的芯片制程，就是因为它能制造13.5纳米的极紫外光源，这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”
“而duv光刻机的深紫外光源，最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术，才能量产7纳米，5纳米。甚至5纳米的良品率都不高，成本却不低。至于5纳米以上的4纳米，3纳米，那更不现实，只能靠euv光刻机的极紫外光源。”
“同样，我们本质上需要的不是euv光刻机，而是13.5纳米的极紫外光源！”
“euv光刻机我们目前造不了，未来难度也很大。但是我们反其道而行，通过其他方式，实现极紫外光源，也能制造出4纳米，3纳米，甚至2纳米，1纳米芯片。”
“比如我之前提到的光刻厂！”王逸顿了顿，继续道：
“建一个光刻厂，通过粒子对撞，实现极紫外光源，然后通过光刻厂的模式，实现euv光刻机的效果。”
“当然，我并非半导体专业人士，以上内容只是基于我不成熟的想法，随口一说。”
“能不能实现，我就不知道了。若是不能实现，还
点击读下一页,继续阅读 无醉春秋 作品《重生2011，二本捡漏985》第291章 半导体提议，光刻厂！