机来说，光刻效率比较低，在实现大规模生产上比较困难，这也是为什么x光刻机没有占据主流的原因，虽然到现在也仍然再用，不过并不是那么引起人们的关心。
不过，这个问题林晓自然是考虑到了，而他觉得x光刻机能搞，便是因为他刚才闪过的灵感，让他有了一个实现x光刻机大规模生产的方法。
那就是利用衍射效应。
x光是能通过晶体进行衍射的，并且一般来说，晶体结构基本上是利用x光衍射来测定的。
但是反过来说，如果选取合适的晶体材料作为透镜，然后利用衍射效应实现对x光的缩放，进而就能实现像euv光刻机那样的生产效率，在加上x光那强大的能量，实现更加快速的生产效率，十分的轻松。
当然，其中就有一个困难的问题了，那就是这个合适的晶体是什么，此外，利用衍射效应实现对x光的控制，其中需要处理的数据十分庞大。
所以到现在虽然也有利用这种衍射效应去实现芯片制造的，但是基本上都仅限于一些特殊的图形，应用案例十分之少。
对于林晓来说，他也仅仅只是这么想一想。
虽然现在的他还有一点把握，但是要是他给外界的人说自己要搞x光刻机的话，恐怕他们华芯盟第二天就得退出个一大半。
不再多想，他重新将目光投入到眼前的数学模型中。
如今升级了的他，再次回顾起这个模型，心中忽然觉得，这个模型似乎还有些欠缺啊？
“唔这个模型似乎还可以再优化一下。”
经过片刻的思考，他找到了可以优化的点。
“嗯，离子抛光机校准系统，还有一点可以优化。”
离子抛光机的校准系统受到本身精度的影响，当然，考虑到内部磁场的影响，离子束的轨道是会受到磁场干扰的，就像是粒子加速器也会受到磁场的各种干扰。
所以如果在校准系统中对磁场干扰误差进行更加精确的修正，或者说是利用磁场误差和离子抛光机自身精度误差的差值，同样也能实现更加精准的抛光。
想到这，林晓立马开始动手计算，而这一步，其实很容易，那就是根查法。
离子束抛光机，喷射等离子体，磁场误差影响这些东西加起来，可不就能够用根查法来解决吗？
当然，由于结构有些不同，还有功能上的不同，所以也需要对根查法做一个简单的修改。
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