各项事情了。
因为之前的有他的指导，所以x光刻机的结构和各部分零部件都已经确定好了，这段时间一直都在进行着这方面的工作，国家给x光计划批准的五十亿元，很大一部分就是为了订购这些零部件准备的。
当然，由于光刻机对精密程度的要求十分高，所以即使是那些非核心部位的零部件，对精度上的要求也是比较高的，因而这部分的事情，也仍然需要一定的时间。
最后，就是林晓现在所负责的晶体透镜技术攻克项目了，当然他的攻克小组中的成员倒是都没有闲着，而是继续做着其他的任务，另外三位教授知道林晓在攻克理论上的问题，这方面他们插不了手，于是就又计算出了好几种能够实现对x光放大缩小的结构。
这些结构在所选元素上不尽相同，除了之前他们搞出来的那种纯硅晶体，现在又搞出了碳化硅晶体，以及其他一些非单质的晶体，这样一来，他们的备选方案也就多了，只要林晓在理论上完成了突破，他们就能根据这多种方案，选出其中成本最低的一种。
所以，这件事情还是得等林晓先把电子拓扑成键理论给搞出来了再说。
当然，林晓作为这些工作的领导，尽管他主要负责的还是技术上面的东西，不过过年期间的安排，还是得由他下达的。
随后，他便拿出手机开始安排了起来。
首先是他们的副总设计师，这位副总师叫杨凯平，本身是魔都微电子集团光刻机的首席研发人员，在魔都微电子集团研发的600系列光刻机中贡献了巨大的力量。
魔都微电子的600系列光刻机，其采用arf准分子激光光源，和duv光刻机一样，不过因为技术上的差距，600系列光刻机只能用来生产90nm芯片的光刻机，90nm看起来很拉，远不如能生产7nm的duv和4nm的euv，但对于华国来说，已经属于一项十分巨大的突破了。
要知道，世界上能造光刻机的公司，如果只算最出名的，那就是阿斯麦尔、尼康和佳能，这是3，如果要算4的话，那就只有魔都微电子能排上号了。
甚至因为外国基本不给华国卖光刻机，只给卖duv，以至于魔都微电子的光刻机在国内市占率高达80%，从某种程度上来说，算得上是“赢麻了”。
当然，也正是魔都微电子所作出的这种突破，才使得国外厂商生出忌惮，很大一部分程度上才使得阿斯麦尔一改往日态度，批准了duv光刻机的对华出
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