加产能。
第二，设备材料国产替代。
助力华微半导体，加速28nm介质刻蚀机验证，实现刻蚀设备的突破与国产替代；
助力北方剑华，收购美利坚novellus剥离业务，即pvd技术，实现沉积设备的突破与国产替代；
助力姑苏瑞红，引进由小日子籍退休专家组成的jsr技术团队，实现光刻胶的突破与国产替代。
对于第三部分的内容，王诩暂时不予置评，继续看向文件的第四部分——风险控制与资源调配。
主要有三大风险：
一是美利坚技术封锁与制裁；
二是人才短缺；
三是资金压力过大。
针对第一个风险，战投部建议通过李家坡和香江中转采购设备，且更多利用非美利坚零部件如小日子光栅。
针对第二个风险，战投部建议集团3年内引进500名海外工程师，同时培养500名国内工程师。
针对第三个风险，战投部建议集团向政府建言，组成相关基金，募资攻克重大课题。
看到这里，王诩的目光立即锁定相关基金和1500亿的首期募资目标上。
群星科技能不能自个儿拿出1500亿？
有统子兜底，肯定能。
王诩也很心动。
但是事情不是这么做的。
领导们再怎么盛赞群星科技是民族企业，改变不了民营企业的本质。
群星科技可以推动行业发展和政策出台，却不能越俎代庖。
人，一定要看清形势，站稳脚跟。
想到这里，王诩心里有了决定，采纳战投部的这个建议，不过也要做一点小小的调整。
那就是向政府相关部门和领导建言的时候，至少要带着500亿去。
这样才显诚意和决心嘛。
敲定这一点，王诩往下看文件的第五部分，也就是最后一部分——分阶段目标规划。
该规划有三个时间节点，2015年、2018年、2025年。
第一，在2015年实现量产65nm、突破193nm液浸镜头的光刻目标，实现华芯国际28nmhkmg量产、国产设备占比15%的芯片制造目标；
第二，在2018年实现试产28nm、储备极紫外光学技术的光刻目标，实现建立完整28nm
点击读下一页,继续阅读 安之何处 作品《花光两万亿，老板们求我别再创业》第198章 怼美之前先干美帝良心想一炮！