司继续研发45nm制程工艺的同时,公司投资开始研发浸没式光刻机,两条腿走路!”
常务副总裁原田弘树负责尼康光刻机的生产和销售,由于bsec浸没式光刻机率先问世,制程工艺达到65nm,还是双工作台,如今正在建设的6条65nm制程工艺的半导体生产线,除了台积电采购了asml浸没式光刻机外,其他5条都是采购bsec浸没式光刻机,公司已经失去了65nm制程工艺光刻机的市场份额,忧心忡忡,开始怀疑公司全球领先的157nm干式光刻机路线。
即使公司率先研制成功45nm制程工艺的干式光刻机,购买了65nm制程工艺浸没式光刻机的晶圆厂,更换干式光刻机需要对生产线进行重新设计,掩膜保护膜也要更新,如果投资很大,没有绝对把握,他们不愿意轻易投资。
“我支持会长的意见,公司重新投入巨资研发浸没式光刻机,如今两条腿走路,公司的财务支持会吃不消。”
尼康半导体公司财务副总裁梅根兰布林也支持森佳照明。
“我希望光刻机研究所早日研发成功45nm制程工艺的光刻机。”
主持会议的吉田一郎最后总结,给公司的发展路线最后定调。